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Technologie d'hydrogénation à basse température du tétrachlorure de silicium
La technologie d'hydrogénation à basse température a été une technologie pour hydrogéner le tétrachlorure de silicium avec de la poudre de silicium et un catalyseur à une température de réaction plus basse. En utilisant un catalyseur à base de cuivre ou de fer, à une température de 400 ~ 800℃, une pression de 2 ~ 4MPa, en ajoutant de la poudre de silicium et de l'hydrogène au lit fluidisé et en réagissant avec du tétrachlorure de silicium pour produire du trichlorosilane . Le principe réactionnel de base de l'hydrogénation à basse température est le suivant :
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)=4SiHCl3(g)
La technologie d'hydrogénation du chlore consiste à ajouter du HCl sur la base de la technologie d'hydrogénation à basse température pour réduire davantage la température de réaction et augmenter le rendement en trichlorosilane . Le principe de la réaction d'hydrogénation du chlore est le suivant : 2SiCl4(g) + H2(g) + HCl(g) + Si(s) = 3SiHCl3(g) . Le plasma d'hydrogène est généré par décharge d'hydrogène, qui est envoyé dans le réacteur pour réagir avec le tétrachlorure de silicium gazeux. L'hydrogène étant dissocié en atomes d'hydrogène, la réactivité est fortement augmentée et il peut facilement réagir avec le tétrachlorure de silicium pour former du trichlorosilane . L'hydrogénation catalytique est une technologie permettant de produire du trichlorosilane en faisant passer un mélange de tétrachlorure de silicium et d'hydrogène à travers un tamis moléculaire chargé d'un catalyseur. Le principe de réaction est le suivant : SiCl4(g)+H2(g)SiHCl3(g)+HCl(g) .
